​工業金屬鍵盤（pán）的拋光處（chù）理方法包括機械拋光、化學拋光、電解拋光、超聲波拋（pāo）光、磁性研磨拋光和流（liú）體拋光等。

機械拋光是依靠非常（cháng）細小的拋光粉的磨削、滾壓作用，除去試（shì）樣磨麵上的極薄一層金屬。

化學拋光是靠化學試劑的化學浸蝕作用對（duì）樣品表麵（miàn）凹凸不平區（qū）域的選擇性浸蝕作用消除（chú）磨痕、浸蝕（shí）整平的一種方法。
電解拋光是指金屬製品（pǐn）在一定組成的溶液中進行特殊的陽極處理，以獲得平滑、光亮表麵的（de）精飾加工過程。

超聲波（bō）拋光就是將零件放在磨料懸（xuán）浮液中，然後放進有超聲波場的裝置內。依靠超聲波的振蕩作用使磨料在零件表麵起磨削拋光作用（yòng），而成為（wéi）一種新的拋光方法。

磁性研磨拋光的（de）方法是采用磁（cí）性研磨劑，通過磁場中（zhōng）磁（cí）力（lì）的作用，磁性研磨劑工作在表麵，同時（shí）保持（chí）在模具表麵和磁極之（zhī）間間斷工作。

流體拋（pāo）光是依靠（kào）高速流動的液體及其（qí）攜帶的磨粒衝刷工件（jiàn）表麵達到拋光（guāng）的目的。

可以根（gēn）據需（xū）求選擇合適的拋光方法。